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    技術文章

    薄膜厚度測量系統各方面信息了解

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    薄膜厚度測量系統
    Thin Film Thickness Measurement System

    快速、準確、無損、靈活、易用、性價比高

    產品簡介:
        TF200薄膜厚度測量系統利用薄膜干涉光學原理,對薄膜進行厚度測量及分析。用從深紫外到近紅外可選配的寬光譜光源照射薄膜表面,探頭同位接收反射光線。TF200根據反射回來的干涉光,用反復校準的算法快速反演計算出薄膜的厚度。測量范圍1nm-3mm,可同時完成多層膜厚的測試。對于100nm以上的薄膜,還可以測量n和k值。

    應用領域:

    半導體(SiO2/SiNx、光刻膠、MEMS,SOI等)

    LCD/TFT/PDP(液晶盒厚、聚亞酰胺ITO等)

    LED (SiO2、光刻膠ITO等)

    觸摸屏(ITO AR Coating反射/穿透率測試等)

    汽車(防霧層、Hard CoatingDLC等)

    醫學(聚對二甲苯涂層球囊/導尿管壁厚藥膜等)

    產品的優勢

     

     

     

    應用案例(數據可靠)

    薄膜厚度測量系統技術參數

    型號

    Delta-VIS

    Delta-DUV

    Delta-NIR

    波長范圍

    380-1050nm

    190-1100nm

    900-1700nm

    厚度范圍

    50nm-40um

    1nm-30um

    10um-3mm

    準確度1

    2nm

    1nm

    10nm

    精度

    0.2nm

    0.2nm

    3nm

    入射角

    90°

    90°

    90°

    樣品材料

    透明或半透明

    透明或半透明

    透明或半透明

    測量模式

    反射/透射

    反射/透射

    反射/透射

    光斑尺寸2

    2mm

    2mm

    2mm

    是否能在線

    掃描選擇

    XY可選

    XY可選

    XY可選

    注:1.取決于材料0.4%或2nm之間取較大者。

    2.可選微光斑附件。

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